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ASAP已研制出全自动光刻机/曝光机(Mask aligner)

2013-10-28

ASAP已研制出全自动光刻机/曝光机(Mask aligner)。
具有高精度的自动平台(Stage)平行度的调节和管理,采用完全非接触间接式管理,从而降低了膜损害的不良率。
同时,在搬送系统中,本公司主打的产品采用匀胶显影(Coater Developer)共处一平台上,与以往的产品相比,全自动光刻机/曝光机实现了更低价格等特性。